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      激光氨逃逸分析儀(激光法)

      更新時(shí)間:2025-09-17

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      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

      產(chǎn)品型號(hào):

      簡(jiǎn)要描述:
      激光氨逃逸分析儀(激光法):基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS) 開(kāi)發(fā)的專用氣體在線監(jiān)測(cè)設(shè)備,核心功能是實(shí)時(shí)、精準(zhǔn)檢測(cè)工業(yè)場(chǎng)景中 “氨逃逸" 現(xiàn)象(即脫硝系統(tǒng)或氨相關(guān)工藝中未反應(yīng)充分的微量氨氣體泄漏 / 殘留),廣泛應(yīng)用于環(huán)保達(dá)標(biāo)監(jiān)測(cè)、設(shè)備安全防護(hù)及工藝優(yōu)化調(diào)控。
      品牌其他品牌產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)

      激光氨逃逸分析儀(激光法)

      一、核心技術(shù)原理:TDLAS 技術(shù)優(yōu)勢(shì)

      激光氨逃逸分析儀的核心技術(shù)是可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜法(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy,簡(jiǎn)稱 TDLAS),其原理是利用特定波長(zhǎng)的半導(dǎo)體激光(僅與氨分子(NH?)產(chǎn)生選擇性吸收),通過(guò)檢測(cè)激光被氨分子吸收后的光強(qiáng)變化,結(jié)合“朗伯-比爾定律"計(jì)算出氨的濃度。

      該技術(shù)相比傳統(tǒng)氨監(jiān)測(cè)方法(如紅外法、電化學(xué)法、化學(xué)發(fā)光法),具有顯著優(yōu)勢(shì):

      高選擇性:激光波長(zhǎng)可精準(zhǔn)匹配氨分子的特征吸收峰,不受煙氣中粉塵、水蒸氣、CO?、SO?、NOx 等干擾組分影響,避免“假陽(yáng)性"或“測(cè)量偏差"。

      高靈敏度:檢測(cè)限可達(dá) 0.1ppm(體積濃度),滿足工業(yè)“氨逃逸"(通常要求≤5ppm)的微量監(jiān)測(cè)需求。

      快速響應(yīng):響應(yīng)時(shí)間≤10秒(T90),可實(shí)時(shí)捕捉氨濃度的瞬時(shí)波動(dòng),及時(shí)反饋工藝異常。

      低維護(hù)性:無(wú)耗材(無(wú)需化學(xué)試劑)、無(wú)運(yùn)動(dòng)部件,減少設(shè)備故障和維護(hù)成本。

       二、設(shè)備核心組成與功能

      激光氨逃逸分析儀通常由采樣系統(tǒng)、激光分析單元、數(shù)據(jù)處理與傳輸單元、校準(zhǔn)系統(tǒng)四部分組成,部分設(shè)備會(huì)集成預(yù)處理模塊(針對(duì)高塵、高溫?zé)煔鈭?chǎng)景),各部分功能如下:

      組成單元           核心部件                  主要功能                                                                采樣系統(tǒng)          高溫伴熱采樣探頭、伴熱管線  1. 從煙道/工藝管道中抽取代表性氣體樣本;2. 伴熱(通常120-180℃)防止氨冷凝(氨易溶于水,冷凝會(huì)導(dǎo)致測(cè)量偏低);3. 初級(jí)過(guò)濾(去除大顆粒粉塵,保護(hù)后續(xù)部件)。 

      激光分析單元   可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器、光電檢測(cè)器、氣室  1. 激光器發(fā)射特定波長(zhǎng)激光,穿過(guò)氣室中的樣本氣體;2. 氨分子吸收激光,檢測(cè)器捕捉剩余光強(qiáng);3. 內(nèi)置算法計(jì)算氨濃度(直接輸出ppm或mg/m3)。 

      數(shù)據(jù)處理單元 嵌入式主板、顯示屏、存儲(chǔ)模塊  1. 實(shí)時(shí)顯示氨濃度、設(shè)備狀態(tài)(如溫度、壓力、流量);2. 存儲(chǔ)歷史數(shù)據(jù)(通常≥6個(gè)月);3. 支持超標(biāo)報(bào)警(聲光報(bào)警、繼電器輸出)。 

      數(shù)據(jù)傳輸單元4G/5G、以太網(wǎng)、RS485接口    1. 符合環(huán)保數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議(如HJ 212),將數(shù)據(jù)上傳至企業(yè)DCS系統(tǒng)、地方環(huán)保平臺(tái);2. 支持遠(yuǎn)程監(jiān)控和參數(shù)設(shè)置。 

      校準(zhǔn)系統(tǒng)     標(biāo)準(zhǔn)氣體接口、自動(dòng)校準(zhǔn)模塊 1. 定期(如每周/每月)用已知濃度的氨標(biāo)準(zhǔn)氣校準(zhǔn),保證測(cè)量準(zhǔn)確性;2.設(shè)備支持“自動(dòng)校準(zhǔn)",無(wú)需人工干預(yù)。 

      三、核心性能參數(shù)(選型關(guān)鍵)

      不同廠家的激光氨逃逸分析儀參數(shù)存在差異,以下為工業(yè)級(jí)設(shè)備的典型性能指標(biāo),也是用戶選型時(shí)需重點(diǎn)關(guān)注的維度:

      參數(shù)類別           典型指標(biāo)范圍                              說(shuō)明                     

      測(cè)量范圍     0-5ppm、0-10ppm、0-30ppm    主流選擇0-10ppm(覆蓋絕大多數(shù)脫硝系統(tǒng)氨逃逸要求,如火電SCR脫硝要求≤5ppm);高濃度場(chǎng)景(如化工氨罐泄漏)可擴(kuò)展至0-100ppm。 

      測(cè)量精度     ≤±2%FS(滿量程)或≤±0.1ppm  精度直接影響數(shù)據(jù)合法性,需滿足環(huán)保監(jiān)測(cè)要求(如誤差不超過(guò)±5%)。       

      響應(yīng)時(shí)間(T90)≤10秒      快速響應(yīng)可及時(shí)發(fā)現(xiàn)氨濃度突升(如脫硝噴氨過(guò)量),避免設(shè)備腐蝕或環(huán)保超標(biāo)。 

      采樣環(huán)境適應(yīng) 溫度-20~60℃(設(shè)備本體);煙氣溫度≤300℃(采樣探頭)  高溫?zé)煔鈭?chǎng)景需選擇“高溫型采樣探頭",避免探頭損壞。                   

      防爆等級(jí)      Ex d IIB T4 Ga(可選)       化工、油氣等防爆區(qū)域需選擇防爆型設(shè)備,確保安全運(yùn)行。                 

      數(shù)據(jù)存儲(chǔ)       ≥6個(gè)月歷史數(shù)據(jù)         滿足環(huán)保部門(mén)“數(shù)據(jù)留存1年"的要求,部分設(shè)備支持云端存儲(chǔ)。               

      四、主要應(yīng)用場(chǎng)景

      激光氨逃逸分析儀的核心應(yīng)用場(chǎng)景圍繞“氨的使用/排放環(huán)節(jié)",重點(diǎn)解決“微量氨監(jiān)測(cè)"需求,具體包括:

      1. 火電/熱電行業(yè)(SCR/SNCR脫硝系統(tǒng))

      監(jiān)測(cè)目的:火電企業(yè)通過(guò)SCR(選擇性催化還原)或SNCR(選擇性非催化還原)工藝脫除煙氣中的NOx,需向系統(tǒng)噴入氨(如液氨、氨水、尿素)作為還原劑。若噴氨過(guò)量,未反應(yīng)的氨會(huì)“逃逸",導(dǎo)致:

      腐蝕煙道、空氣預(yù)熱器(氨與SO?反應(yīng)生成硫酸銨,堵塞設(shè)備);

      增加粉塵中氨含量,影響粉塵排放達(dá)標(biāo);

      造成氨資源浪費(fèi),提高運(yùn)行成本。

      安裝位置:通常安裝在SCR反應(yīng)器出口煙道(或空氣預(yù)熱器入口),實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)氨逃逸濃度,反饋給DCS系統(tǒng)調(diào)節(jié)噴氨量。

      2. 鋼鐵/水泥行業(yè)(脫硝系統(tǒng))

      鋼鐵廠(燒結(jié)機(jī)、高爐)、水泥廠(回轉(zhuǎn)窯)的煙氣脫硝系統(tǒng)與火電類似,需監(jiān)測(cè)氨逃逸,防止設(shè)備堵塞和環(huán)保超標(biāo)(如《鋼鐵工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB 28662-2012)對(duì)氨逃逸無(wú)直接限值,但要求避免二次污染)。

      3. 化工行業(yè)(氨相關(guān)工藝)

      應(yīng)用場(chǎng)景:合成氨裝置、氨綸生產(chǎn)、化肥(如尿素)生產(chǎn)、精細(xì)化工(氨作為原料)等環(huán)節(jié),需監(jiān)測(cè)工藝管道、儲(chǔ)罐的氨泄漏(微量逃逸),防止:

      氨(刺激性氣體)危害操作人員健康;

      氨與空氣混合達(dá)到爆炸極限(氨爆炸極限15.7%-27.4%),引發(fā)安全事故。

      4. 垃圾焚燒廠(脫硝系統(tǒng))

      垃圾焚燒煙氣中NOx濃度較高,需通過(guò)SNCR脫硝工藝噴氨,氨逃逸監(jiān)測(cè)可避免氨與煙氣中酸性氣體反應(yīng)生成銨鹽,堵塞后續(xù)布袋除塵器。

      五、設(shè)備核心優(yōu)勢(shì)

      相比傳統(tǒng)氨監(jiān)測(cè)設(shè)備,激光氨逃逸分析儀的核心競(jìng)爭(zhēng)力體現(xiàn)在以下方面:

      1. 抗干擾能力強(qiáng):TDLAS技術(shù)的“選擇性吸收"特性,可忽略粉塵、水蒸氣、其他氣體的干擾,尤其適合工業(yè)復(fù)雜煙氣環(huán)境。

      2. 運(yùn)維成本低:無(wú)化學(xué)試劑消耗、無(wú)易損件,年維護(hù)次數(shù)通常≤2次(僅需更換過(guò)濾芯、定期校準(zhǔn)),降低企業(yè)運(yùn)維人力和費(fèi)用。

      3. 數(shù)據(jù)合規(guī)性高:主流設(shè)備均通過(guò)CCEP環(huán)保產(chǎn)品認(rèn)證和CPA計(jì)量器具型式批準(zhǔn)認(rèn)證,監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)可直接用于環(huán)保部門(mén)監(jiān)管,避免“數(shù)據(jù)無(wú)效"風(fēng)險(xiǎn)。

      4. 安裝靈活:支持“原位安裝"(直接將分析單元插入煙道,無(wú)需采樣管線,減少滯后)和“抽取式安裝"(適合高塵、高濕場(chǎng)景),適配不同工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)條件。

      六、使用注意事項(xiàng)

      1. 安裝位置選擇:需選擇煙氣混合均勻的位置(如煙道直管段,避開(kāi)彎頭、閥門(mén)),確保采樣氣體具有代表性;若安裝在負(fù)壓煙道,需配置抽氣泵保證采樣流量穩(wěn)定。

      2. 定期校準(zhǔn):即使設(shè)備支持自動(dòng)校準(zhǔn),也需每3-6個(gè)月用“有證標(biāo)準(zhǔn)氣體"(如5ppm、10ppm氨標(biāo)準(zhǔn)氣)進(jìn)行手動(dòng)校準(zhǔn),確保測(cè)量精度。

      3. 預(yù)處理維護(hù):高塵場(chǎng)景需定期更換采樣探頭的過(guò)濾芯(通常1-3個(gè)月),防止濾芯堵塞導(dǎo)致采樣流量下降,影響測(cè)量結(jié)果;伴熱管線需檢查伴熱溫度,避免溫度過(guò)低導(dǎo)致氨冷凝。

      4. 環(huán)境防護(hù):設(shè)備本體需避免安裝在淋雨、高溫暴曬或強(qiáng)振動(dòng)的位置,防爆區(qū)域必須選擇對(duì)應(yīng)防爆等級(jí)的設(shè)備,嚴(yán)禁非防爆設(shè)備在危險(xiǎn)區(qū)域使用。

      技術(shù)參數(shù):

      激光氨逃逸分析儀(激光法)

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